SABIC EPDM 245 არის დაბალი მთვარის სიბლანტის, დაბალი ეთილენის და საშუალო შემცველობის ENB კლასის ხარისხი, რომელიც წარმოებულია ხსნარის პოლიმერიზაციის შედეგად მეტალოცენის კატალიზატორის გამოყენებით. ეს არის ამორფული პოლიმერი საშუალო მოლეკულური წონის განაწილებით. ის შეიძლება გამოყენებულ იქნას როგორც პოლიმერული პლასტიზატორი სხვა მაღალი სიბლანტის პოლიმერებთან ნარევებში. ეს კლასი ხელმისაწვდომია ფხვიერი ბალიშებით.
SABIC EPDM 245 შეიძლება გამოყენებულ იქნას: სამუხრუჭე ნაწილებისთვის, ზუსტი ლუქების, შუასადებების, ჩამოსხმული ქაფის ფურცლების, ელექტრო კონექტორებისთვის, სხვა ჩამოსხმული პროდუქტებისთვის.

SABIC EPDM 626 არის საშუალო მთვარის სიბლანტის, მაღალი ეთილენის და დაბალი ENB შემცველობის ხარისხი, რომელიც წარმოიქმნება ხსნარის პოლიმერიზაციის შედეგად მეტალოცენის კატალიზატორის გამოყენებით. მას აქვს საშუალო მოლეკულური წონის განაწილება. ეს პროდუქტი ხელმისაწვდომია გრანულების სახით.

SABIC EPDM 657 არის საშუალო მთვარის სიბლანტის, მაღალი ეთილენის და საშუალო ENB შემცველობის კლასის წარმოებული ხსნარის პოლიმერიზაციით მეტალოცენის კატალიზატორის გამოყენებით. მას აქვს საშუალო მოლეკულური წონის განაწილება მოლეკულური შემადგენლობისა და არქიტექტურის ზუსტი კონტროლით. ეს პროდუქტი ხელმისაწვდომია გრანულების სახით.
SABIC EPDM 657 შეიძლება უჩივლოს: შლანგები, მექანიკური საქონელი, წნეხილი პროფილები, დაბალი ძაბვის მავთულისა და კაბელის იზოლაცია, შუასადებები და ლუქები

SABIC EPDM 756 არის მაღალი მთვარის სიბლანტე, მაღალი ეთილენის და საშუალო ENB შემცველობის ხარისხი, რომელიც წარმოიქმნება ხსნარის
პოლიმერიზაციით მეტალოცენის კატალიზატორის გამოყენებით. მას აქვს საშუალო მოლეკულური წონის განაწილება. ეს პროდუქტი ხელმისაწვდომია გრანულების
სახით.
SABIC EPDM 756 შეიძლება გამოვიყენოთ: სამრეწველო შლანგები, საავტომობილო შლანგები და ქამრები, წნეხილი პროფილები, ავტომატური ამინდის ბეჭდები, სითბოს მდგრადი აპლიკაციებისთვის

SABIC EPDM 855 არის მაღალი მთვარის სიბლანტის, საშუალო ეთილენის და ENB შემცველობის კლასის წარმოებული ხსნარის პოლიმერიზაციით მეტალოცენის კატალიზატორის გამოყენებით. ეს არის ამორფული პოლიმერი საშუალო მოლეკულური წონის განაწილებით. ის ხელმისაწვდომია ფხვიერი ბალიშებით.